同样使用荷兰的光刻机,为什么只有台积电可以制造3nm?

7nm工艺必须要使用EUV光刻机 目前台积电、三星电子已经进入了3nm时代。至于7nm工艺，造在2018年台积电、三星就突破了。但是三星在成品率上低于台积电，在漏电率上高于台积电。而其他的厂商，如：英特尔、中芯国际直到现在都没有突破7nm工艺制程。为什么7nm工艺如此难突破呢？当工艺制程达到一定程度...

虽然我国的光刻机技术还不是很成熟，但也是不可缺少的。目前全世界光刻机最好的也只有荷兰的ASML公司能够制造出来，虽然我国的光刻机精度不是很高，但却是一个必须存在的东西。如果按照目前的科技水平来看，90nm的精度并不能做什么，就算是用90nm光刻机制作出来的芯片在一些性能上也是不合格的，甚至...

我们的光刻机的精度是90纳米，EUV光刻机的发展差距大约是15年。一家中国公司向阿斯梅尔订购了一台光刻机。在接下来的几个月里，美国和荷兰保持着频繁的联系。在交货前夕，阿斯梅尔工厂无故起火，一个14nm制程厂的建造成本为100亿美元，而台积电正在开发的3nm制程将至少需要1000亿美元的研发加上资本支出...

Asml之所以能够从三足鼎立当中突围并实现独家垄断，有一个很重要的原因就是有芯片企业的资金支持和市场支持。比如目前我们所熟悉的一些芯片巨头英特尔、联发科，台积电，三星，海力士都是asml的股东，这些芯片巨头源源不断的给asml提供资金支持。除此之外，因为是asml的股东，所以这些芯片巨头在采购光刻机的...

比如我国的芯片需求占世界的50％以上，到现在我们的比较有名芯片设计商就是华为的麒麟了，但是依然跟国际水平还是有一定差距，在芯片制造流程中的高端光刻机更差得远一点。英特尔、台积电和三星分别出资41亿、8.38亿、5.03亿欧元，在研发过程中，ASML的研发实际上是开放式和沟通式的，他们会反过来询问这...

高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML（镜头来自德国），日本Nikon（intel曾经购买过Nikon的高端光刻机）和...

也就是说这家公司几乎是垄断了整个市场，当前的众多芯片产商都是需要这家公司的生产才能够制造出完美的芯片。荷兰之所以能够拥有一个全世界顶尖水平的光刻机厂商，首先就是因为ASML这家公司的研发投入十分大，2019年的研发成本支出达到了4.8亿欧元，他们的员工有四成都是研发类，加上他们的很多技术都是...

2、掩膜制造 在完成设计后，需要将电路图转化为掩膜（Mask），即用光刻机在硅片上形成微米级别的线路图案。这一步通常由专门的半导体厂商完成。3、晶圆生产 然后，在掩膜制作完毕后，就可以开始晶圆生产了。晶圆是一个直径约12英寸（30厘米）的硅盘子，在其中通过高温热化学气相沉积法（CVD）或物理气相...

值得一提的是，这57台光刻机中有30台被台积电购买，每台价格约为10亿元人民币。这意味着台积电在光刻机上的投资总计达到了300亿美元。在荷兰ASML的垄断下，光刻机的价格和生产能力成为了行业的关键指标。以ASML的光刻机理想产能为例，每小时能够处理200片12英寸晶圆。然而，实际产能通常只有理想产能的...